为，在很长一段时间内，人类无法突破光刻光源的技术瓶颈，只能使用波长为193n的光源，却对升级成157n波长光源所遇到的一系列问题束手无策。
尽管当时全世界动员了无数的科学家，众多企业和财团为此投入了海量的金钱，但，受到当时基础材料发展及工业加工能力的限制，还是没能迅速解决问题，当时的半导体业界甚至称157n“是一堵墙”，让所有有志于尝试突破的人都撞得头破血流，这一卡，就是十多年，直到进入了二十一世纪。
其实，在业界，早有人为此提出了解决方案，1986年，此时还在ib从事成像技术研究的林本兼提出了一个天才的想法他认为缩短波长的最佳方案是由“干式微影技术”转向“浸润式”。
但，就像历史上曾经多次重演过的一样，过于领先的天才想法注定得不到认同，当时整个半导体界还没在光源的波长面前撞墙并吃到苦头，他的“浸润式”技术方案无人问津。
直到2001年，林本兼离开了ib并加入了台积电，已经完善了“浸润式光刻机”理论的他接连发表了三篇重量级的学术论文，在论文中他指出既然157n难以突破，为什么不退回到技术成熟的193n，把透镜和硅片之间的介质从空气换成水，