一把绝对是值得的，毕竟华投有了相应的技术积累。
除此之外，还有一个好处，那就是采用193nm乾式光刻机到了65nm左右时，差不多快到极限了，而采用华国路线，线程可以直接到达30nm左右，都问题不大。
所以到达这段线程区间时，欧美要么更换光源全部推倒重来，要么与华国交换技术。前者需要大量投资，而后者有现成的技术，到时候除非资本家脑子短路了，否则他们一定会与华国交换专利。因此华国的技术路线，明显才是未来，那么现在投入再多，也是值得的。
就在1998年初，更换了身份之后的孙祖杰，以华投决策小组组长的身份，出席了新型光刻机的研发动员大会，林先生也参加了这次动员大会。
这几年林先生的研究团队精力都放在天翼那条0.5微米晶片生产线的调试和改进上，并没有许可权知道华投在光刻机领域的那些秘密。
经过几年的合作之后，林先生的研究团队已经被认可，所以今天他才有资格出席今天的动员大会，参与到这款代表未来的光刻机研究。
林先生听着长吉光电所的同志公开新型光刻机的技术方案，简直不敢相信自己的耳朵。
什么时候内地已经