光学对准精度、同步扫描精度等因素有关，定位精度、对准精度和同步扫描精度分别约为套刻精度的1/5～1/3，即0.006～0.01μm。
而提高生产效率是光刻机实现产业化的必要条件。为了提高生产效率，必须优化设计雷射器输出功率、重复频率、曝光能量控制、同步扫描等各个技术环节，并采用先进技术尽量减少换片、步进和光学对准等环节所需时间。
要想能够完善所有环节，必须用漫长的时间去摸索，调试，这就需要大量的投资。虽然欧派微芯出钱，各大学和几大光学所出技术，花了无数的钱，但是因为华国整体工业实力的不足，华国国产光刻机为了提高套刻精度，还是不得不降低生产效率。
华国九十年代研发的1微米前道光刻机相比于进口产品，效率一直差得比较多，就是这个原因，所以为了提高生产效率，孙祖杰很早就想到了阿斯麦的双工作台。
双工作台系统，使得光刻机能在一个工作台进行曝光晶圆片，同时在另外一个工作台进行预对准工作，并在第一时间得到结果反馈，这样生产效率可以提高大约 35%，精度提高 10%以上。
但是双工件台系统虽然仅是加一个工作台，但技术难度却不容小觑，