DUV依然采用上一代业已成熟的193nm光源，但增加了浸润式技术，利用液体与空气不同的折射率原理进行光路分割，在原有光源与镜头的条件下，获得了显著提升的蚀刻精度，根据测算，该系统的上限可以做到5nm！
并且，原先购买了“华夏光电”出品的193nm光刻机的厂商，可以获得优惠的技术升级，以安装一个标准套件的方式，方便地升级至最新制程！
一时之间，石破天惊，芯片制造厂商纷至沓来，而“矩阵”实验室和“华夏光电”联手，毫不客气地编织了一张绵密的专利网，将这种新技术牢牢锁死在了自家的抽屉里，在市场和技术两端事实上垄断了浸润式光刻机，同时“华夏光电”用近乎倾销的，贴近上一代光刻机的价格销售该产品，也间接宣判了其他光刻机厂商的死刑。
在诸多国际光刻机厂商感受到了危机之后，华夏部分媒体上忽然多出了很多胸怀天下的人，他们打出了“科技无国界”这一高大上的旗号，或者阴阳怪气，或者明赞暗贬，说什么“技术垄断不利于人类科技进步”，其核心无非就是想让“华夏光电”或者“矩阵”实验室将这种光刻机技术向其他厂商授权，不过不管是“华夏光电”还是“矩阵”实验室全都不为所动，甚至连个应对的申