为接下来的超越做好了充足的准备。
凭借接连突破365nm i-line光源光刻机和248nmKrF光源光刻机积累的经验、吸收的教训、培养的人才，常春光机所、“矩阵”实验室和“华夏光电”联合组建的这支光刻机攻关团队已经成长起来了，对接下来突破193 nm ArF 准分子激光光刻机充满了必胜的信心，团队制定的时间表是在本世纪内，一定要实现这个目标！
在这十年之中，林本兼也在谭振华强大的资金投入支持下，进一步完善了他的“浸润式光刻机”理论，进行了一系列基础和工程验证试验并取得了极大的进展，随着科技的进步和精密加工手段的不断完善，相信在不久的将来，林本兼主持的这一课题，必将给光刻机这一行业带来颠覆性的成果。
根本无需怀疑这笔用无数金钱和时间堆出来的投资值不值得，在谭振华的上一世，这是已经被证明过的。
而在谭振华的规划中，届时，当有了全世界最先进的光刻机在手，他就可以用这一根针突破半导体漫长的产业链条这张大网，交换回整个产业链中最核心的几项关键技术和关键设备，那么，华夏也将成为这个产业链中牢固且不可或缺的一环，让企图用扼杀该产业链对华夏的供应从而阻