消化并吸收了这条线的技术之后，由“矩阵”实验室牵头并出资，华夏又用了3年时间，在今年年初完成了i-line光源光刻机的研发，而这，只比国际上率先完成该项技术实际应用的佳能晚了2年。
这已经是一个了不起的成就了，也是在该领域内，华夏有史以来最接近世界先进水平的时候，但谭振华知道，越是在这种时候，越是要加大投入，不能有丝毫的松懈。
因为半导体行业内竞争日趋白热化，被卷入竞争的装备供应商们也都在这个关键设备上投入了巨大的人力和物力，不管是倭国的佳能、尼康还是米国的SVG、荷栏的ASML，全部都没有停下脚步的意思，在相继完成了可以满足-微米加工工艺的i-line光源光刻机之后，都瞄准了波长更短的KrF光源，除此以外，双浮动工作台、扫描投影式光刻等全新的技术也展现出了在光刻机上优异的性能和应用，新一代的光刻机已经呼之欲出，而按照最乐观的预计，团队也还需要2年时间才有可能完成同类产品的研发。
这就意味着，依然要落后2年。
也就意味着，谭振华旗下的“华夏光电设备有限公司”制造出的光刻机依然只能以低廉的价格获得少得可怜的市场占有率，他在该领域上的投资，也